申請(qǐng)專利可以壟斷核心技術(shù)和保護(hù)產(chǎn)品顏值，提升企業(yè)融資估值，知識(shí)產(chǎn)權(quán)質(zhì)押貸款，助力高企、專精特新認(rèn)定，享受研發(fā)費(fèi)用加計(jì)扣除稅收優(yōu)惠，產(chǎn)品包裝、官網(wǎng)標(biāo)注 “專利產(chǎn)品”，提升消費(fèi)者信任。【往下看專利如何申請(qǐng)】

一、發(fā)明專利申請(qǐng)

發(fā)明專利保護(hù)什么

發(fā)明專利申請(qǐng)條件

1. 新穎性：全球范圍內(nèi)未公開(kāi)（論文、展會(huì)、產(chǎn)品發(fā)布均算公開(kāi)）；

1. 創(chuàng)造性：比現(xiàn)有技術(shù)有 “突出實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)”（如突破行業(yè)瓶頸）；

1. 實(shí)用性：可工業(yè)化制造 / 使用，能產(chǎn)生積極效果（如降本、提效）。

發(fā)明專利申請(qǐng)材料

• 核心文件：請(qǐng)求書(shū)、說(shuō)明書(shū)、權(quán)利要求書(shū)、摘要；

• 可選文件：說(shuō)明書(shū)附圖、優(yōu)先權(quán)證明；

• 格式要求：使用國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局標(biāo)準(zhǔn)表格（見(jiàn)下圖）。

 發(fā)明專利申請(qǐng)流程與周期（ 2-4 年）

1. 形式審查（1-2 個(gè)月）：文件格式、簽名合規(guī)性審核；

1. 公開(kāi)階段（申請(qǐng)日起 18 個(gè)月）：主動(dòng)公開(kāi)或提前公開(kāi)；

1. 實(shí)質(zhì)審查（需自申請(qǐng)日起 3 年內(nèi)提出）：技術(shù)新穎性、創(chuàng)造性檢索；

1. 授權(quán)領(lǐng)證（審查通過(guò)后 1-2 個(gè)月）：繳納年費(fèi) + 證書(shū)費(fèi)。

• 禁止 “先公開(kāi)后申請(qǐng)”：產(chǎn)品發(fā)布 / 論文發(fā)表后將喪失新穎性；

• 權(quán)利要求書(shū)撰寫(xiě)：過(guò)窄保護(hù)不足，過(guò)寬易被駁回；

• 加速通道：分優(yōu)先審查和快速預(yù)審，具體條件可咨詢凱東18925013972（微信同號(hào)）。

二、實(shí)用新型專利申請(qǐng)

 實(shí)用新型專利保護(hù)什么

實(shí)用新型專利申請(qǐng)條件

1. 僅保護(hù) “產(chǎn)品”（不保護(hù)方法），需有確定形狀 / 構(gòu)造；

1. 創(chuàng)造性要求低于發(fā)明（僅需 “實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和進(jìn)步”）；
   實(shí)用性：可重復(fù)制造，能解決具體技術(shù)問(wèn)題。

實(shí)用新型專利申請(qǐng)材料

• 核心文件：請(qǐng)求書(shū)、說(shuō)明書(shū)、權(quán)利要求書(shū)、說(shuō)明書(shū)附圖；

• 其他：摘要及摘要附圖。

1. 形式審查（1-2 個(gè)月）：文件完整性、附圖清晰度審核；

1. 初步審查（6-8 個(gè)月）：無(wú)實(shí)質(zhì)審查，僅核查是否符合客體要求；
   授權(quán)領(lǐng)證（2-3 個(gè)月）：無(wú)駁回則直接繳費(fèi)拿證。

• 禁止 “非結(jié)構(gòu)改進(jìn)”：僅材料替換、尺寸調(diào)整會(huì)被駁回；

• 附圖規(guī)范：需清晰展示產(chǎn)品結(jié)構(gòu)，避免線條模糊；
  組合申請(qǐng)：與外觀設(shè)計(jì)搭配，全面保護(hù)產(chǎn)品。

三、外觀設(shè)計(jì)專利

外觀專利保護(hù)什么產(chǎn)品外觀造型、圖案 / 色彩組合，適合靠顏值競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品。

外觀專利申請(qǐng)條件

1. 新穎性：與現(xiàn)有設(shè)計(jì)無(wú)實(shí)質(zhì)性相似（相似度超 80% 即駁回）；

1. 工業(yè)適用性：可批量生產(chǎn)；

1. 非功能性：僅保護(hù)外觀，不涉及產(chǎn)品功能。

• 核心文件：請(qǐng)求書(shū)、外觀設(shè)計(jì)圖片 / 照片（六視圖 + 立體圖）、簡(jiǎn)要說(shuō)明；

• 圖片要求：分辨率≥300dpi，無(wú)陰影 / 背景，標(biāo)注比例尺；

• 簡(jiǎn)要說(shuō)明：突出設(shè)計(jì)要點(diǎn)。

1. 形式審查（1-2 個(gè)月）：圖片清晰度、分類(lèi)準(zhǔn)確性審核；

1. 初步審查（2-6 個(gè)月）：新穎性檢索，對(duì)比現(xiàn)有設(shè)計(jì)庫(kù)；

1. 授權(quán)領(lǐng)證（1-2 個(gè)月）：無(wú)相似設(shè)計(jì)則繳費(fèi)拿證。

• 圖片質(zhì)量：35% 的申請(qǐng)因圖片問(wèn)題被補(bǔ)正，延長(zhǎng)周期 2-3 個(gè)月；

• 駁回應(yīng)對(duì)：與現(xiàn)有設(shè)計(jì)相似時(shí)，需修改局部特征后重新申請(qǐng)。